본문바로가기
고객의 꿈이 바로 당사의 희망으로 꿈을 펼칠 수 있게 발돋움 할 것을 약속드립니다. Plasma Systems

HOME > 자료실 > 플라즈마 관련자료실

플라즈마 관련자료실

Etching System 관련 자료

관리자 | 2018.05.03 18:12 | 조회 123

RIE System: 하부 저밀도 RF 전극을 활용하여 식각(Etching)하는 장비 입니다.


PE-RIE System: 상부 저밀도 RF 전극을 활용하여 Soft Ashing, 표면처리, Cleaning 하는 장비 입니다.

                        하부 저밀도 RF 전극을 활용하여 일반적인 식각(Etching)도 가능한 장비 입니다.

                        다른 장비(를 활용하여 표면 처리, Cleaning을 한 후 별도의 장비로 식각(Etching)을 할 때 2 가지의 장비가 필요하지만

                        PE-RIE System 한 장비로 2가지 의 기능을 할 수 있습니다.

ICP-RIE System: 상부 고밀도 RF 전극을 활용하여 Ashing, 표면처리, Cleaning(유기물 Cleaning도 가능) 하는 장비 입니다.

                         하부 저밀도 RF 전극을 활용하여 일반적인 식각(Etching)도 가능한 장비 입니다.

                          상부와 하부 RF 전긍을 한꺼번에 사용을 한다면 정교한 식각(Etching)도 가능한 장비 입니다.


다른 회사 보다 조금이라도 저렴하게 장비를 공급하고 있으며 올포시스템은 장비를 수주 받아서 제작하기 때문에 장비의 성능을 알아 보기 위해서는 실제로 장비를 납품한 곳도 연결도 가능 합니다.


장비에 관심이 있거나 구매 의사가 있을 때 언제든지 연락주세요!


납품처는 서울대학교, 한양대학교, 성균관대학교, 부산대학교, KIST, GIST, UNIST, DGIST, 구미전자정보기술원, 등 많이 납품을 했습니다.


올포시스템은 일반 장비 업체와 달리 기술력을 인정 받아 실제 반도체 양산라인에 Ashing System을 제작하여 납품하는 국내 최대의 장비 제작 업체에 고밀도 플라즈마 소스 모듈을 납품하고 있습니다.


관련 자료를 참고 하시기 바랍니다.


문의 사항이 있으시면 언제든지 연락주세요!

twitter facebook me2day 요즘