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ICP-CVD 성균관대학교 김태성 교수님 연구실에서 사용하고 있습니다.

관리자 | 2018.09.05 16:51 | 조회 108

ICP-CVD 성균관대학교 기계공학부 김태성 교수님 연구실에서 사용하고 있습니다.


ICP-CVD: Substrate 온도가 Max. 400도, 고밀도 Plasma를 사용하여 화학증착하는 장비입니다.


연구용 플라즈마 및 진공 장비를 제작하는 업체 중에 반도체 양산 장비를 제작하는 기업에 ICP type의 Plasma Source Module 납품하고 연구용 장비를 제작하는 업체는 올포시스템이 유일 할 곳 입니다.


저가격 고효율의 연구용 Plasma System을 제작하고 있습니다.


연구용 장비 선정시 참조하시기 바랍니다.


문의사항이 있으시면 부담없이 언제든지 연락주세요!

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